中國光學(xué)

《中國光學(xué)》（前身為：《中國光學(xué)與應(yīng)用光學(xué)》）（雙月刊）創(chuàng)刊于2008年，是由中科院主管、經(jīng)國家新聞出版署批準(zhǔn)、中科院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所主辦的國內(nèi)光學(xué)領(lǐng)域又一本新的學(xué)術(shù)刊物，國內(nèi)外公開發(fā)行。

《中國光學(xué)》辦刊宗旨：報(bào)道我國光學(xué)領(lǐng)域的最新研究理論、科技成果和創(chuàng)新技術(shù)，反映光學(xué)領(lǐng)域的最新科技水平和發(fā)展動(dòng)向，為國內(nèi)外相關(guān)學(xué)科領(lǐng)域的科研人員提供學(xué)術(shù)交流和學(xué)術(shù)積累的平臺(tái)，促進(jìn)光學(xué)和應(yīng)用光學(xué)學(xué)科的發(fā)展。報(bào)道內(nèi)容：基礎(chǔ)光學(xué)、發(fā)光理論與發(fā)光技術(shù)、光譜學(xué)與光譜技術(shù)、激光與激光技術(shù)、集成光學(xué)與器件、纖維光學(xué)與器件、光通信、薄膜光學(xué)與技術(shù)、光電子技術(shù)與器件、信息光學(xué)、新型光學(xué)材料、光學(xué)工藝、現(xiàn)代光學(xué)儀器與光學(xué)測試、光學(xué)在其他領(lǐng)域的應(yīng)用等。

商標(biāo)注冊(cè)